Bernhard Kneer Fachvortrag in Dresden: Von UV zu EUV – Der Weg von ZEISS Lithografie-Optik; High-NA-EUV im Fokus
Bernhard Kneer Fachvortrag in Dresden: Von UV zu EUV – Der Weg von ZEISS Lithografie-Optik; High-NA-EUV im Fokus Alumni-Event: Fachvortrag „Von UV zu EUV – Der Weg von ZEISS an die Weltspitze der Lithografie-Optik“ - Silicon Saxony Alumni-Event: Fachvortrag „Von UV zu EUV – Der Weg von ZEISS an die Weltspitze der Lithografie-Optik“ Die Alumni Gruppe von Silicon Saxony lädt herzlich zu einem besonderen Fachabend ein: Am23. Juni 2026begrüßen wirBernhard Kneer, Leiter des Bereichs Product Systems Engineering bei derCarl Zeiss SMT GmbHin Oberkochen. Er wird in einem ausführlichen Vortrag die technologische Entwicklung der Lithografie Optik von der UV zur EUV Ära nachzeichnen und zentrale Innovationspfade der Halbleiterindustrie beleuchten. ...